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屏蔽層新技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)如何?

屏蔽層新技術(shù)正朝著高性能化、輕量化、集成化、智能化、綠色化等方向發(fā)展,具體體現(xiàn)在材料創(chuàng)新、工藝優(yōu)化、功能集成、智能調(diào)控和環(huán)保要求等方面。以下為詳細(xì)分析:

一、材料創(chuàng)新

  1. 新型屏蔽材料研發(fā):導(dǎo)電聚合物、納米材料、復(fù)合電磁屏蔽材料等新型材料正逐漸成為研究熱點(diǎn)。這些材料具有優(yōu)異的電磁屏蔽性能和加工性能,能夠滿足市場(chǎng)對(duì)高性能電磁屏蔽材料的需求。例如,導(dǎo)電聚合物有望在消費(fèi)電子領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用,納米材料則將在高頻率電磁屏蔽領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。

  2. 金屬類材料超薄化:金屬類屏蔽材料正朝著超薄化方向發(fā)展,以提高屏蔽效能并降低材料成本。

  3. 填充類材料高效化:填充類屏蔽材料,如導(dǎo)電塑料件、硅膠件等,正選擇更加高效、生產(chǎn)成本低的材料,以提高屏蔽性能和降低生產(chǎn)成本。

二、工藝優(yōu)化

  1. 共形屏蔽技術(shù):共形屏蔽技術(shù)將屏蔽層和封裝完全融合在一起,模組自身就帶有屏蔽功能。這種技術(shù)不占用額外的設(shè)備空間,主要用于PA、WiFi/BT、Memory等SiP模組封裝上,用來(lái)隔離封裝內(nèi)部電路與外部系統(tǒng)之間的干擾。共形屏蔽技術(shù)具有優(yōu)良的電磁屏蔽性能,可以取代大尺寸的金屬屏蔽罩,未來(lái)有望隨著SiP技術(shù)以及設(shè)備小型化需求而普及。

  2. 多層共擠技術(shù):對(duì)于高壓電纜等需要多層屏蔽的應(yīng)用場(chǎng)景,多層共擠技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)各層材料的緊密結(jié)合和性能互補(bǔ)。通過(guò)優(yōu)化各層材料的厚度和配方,可以提高屏蔽層的整體性能。

三、功能集成

  1. 多功能復(fù)合材料:將EMI屏蔽功能與顯示、觸摸等功能集成于一體的多功能復(fù)合材料成為行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)。這種材料不僅能夠提供優(yōu)異的電磁屏蔽性能,還能夠?qū)崿F(xiàn)其他功能,如顯示、觸摸等,從而提高電子設(shè)備的集成度和用戶體驗(yàn)。

  2. 雙功能材料研發(fā):高導(dǎo)熱兼強(qiáng)屏蔽的雙功能材料需求迫切。這種材料能夠在提供優(yōu)異電磁屏蔽性能的同時(shí),實(shí)現(xiàn)高效的熱傳導(dǎo),滿足電子設(shè)備對(duì)散熱和電磁屏蔽的雙重需求。

四、智能調(diào)控

  1. 智能化電磁屏蔽技術(shù):通過(guò)引入傳感器、智能控制等技術(shù),電磁屏蔽材料可以實(shí)現(xiàn)自適應(yīng)調(diào)節(jié)。例如,智能電磁屏蔽材料可以根據(jù)電磁干擾的強(qiáng)度和頻率,自動(dòng)調(diào)整屏蔽材料的結(jié)構(gòu)和性能,實(shí)現(xiàn)最佳屏蔽效果。

  2. 算法優(yōu)化設(shè)計(jì):在輻射屏蔽等領(lǐng)域,基于遺傳算法等優(yōu)化算法的多目標(biāo)優(yōu)化方法被應(yīng)用于屏蔽層設(shè)計(jì)。這種方法能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)不同屏蔽層厚度的優(yōu)化,以最小化輸出端總劑量、屏蔽裝置重量以及總體積,提高屏蔽設(shè)計(jì)的效率和性能。

五、環(huán)保要求

  1. 綠色環(huán)保材料:隨著環(huán)保意識(shí)的不斷提高,綠色、環(huán)保的電磁屏蔽材料逐漸成為市場(chǎng)的主流。這些材料在生產(chǎn)和使用過(guò)程中對(duì)環(huán)境的影響較小,符合可持續(xù)發(fā)展的要求。

  2. 環(huán)保政策推動(dòng):各國(guó)政府和行業(yè)主管部門推出了一系列產(chǎn)業(yè)政策、指導(dǎo)意見及發(fā)展規(guī)劃,鼓勵(lì)電磁屏蔽材料行業(yè)向綠色化方向發(fā)展。例如,我國(guó)政府將電磁屏蔽材料列為重點(diǎn)發(fā)展領(lǐng)域,強(qiáng)化技術(shù)攻關(guān)與性能提升,推動(dòng)高頻高速基材、先進(jìn)封裝材料等研發(fā),同時(shí)配套財(cái)政補(bǔ)貼與稅收減免政策。


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